高分辨場發(fā)射掃描電鏡

HITACHI SU-8010高分辨場發(fā)射掃描電鏡包括SU-8010主機和E-1045噴鉑噴碳裝置，并配備有EDAX X射線能譜儀。加速電壓為15kV時，分辨率為1.0nm，加速電壓為1kV時，分辨率為1.3nm。

日立2005年在中國推出了S-4800型高分辨場發(fā)射掃描電鏡，由于出色的應用性能、良好的穩(wěn)定性和簡易的維護，收到了各界用戶的*。

日立2011年新推出了它的后續(xù)機型----SU8010，它繼承了S-4800的優(yōu)點，性能有進一步提高，1kv使用減速功能后，分辨率提升到1.3nm，相對于S-4800可以在更低的加速電壓下呈高分辨像，明顯提升了以往很難觀測的低原子序數(shù)樣品的觀測效果。

產(chǎn)品特點：

1. 低加速電壓成像能力，1kv分辨率可達1.3nm

2. 日立專li的ExB設計，不需噴鍍，可以直接觀測不導電樣品

3. Upper探頭可選擇接受二次電子像或背散射電子像

4. 可以根據(jù)樣品類型和觀測要求選擇打開或關閉減速功能

5. 標配有冷指、電子槍內置加熱器，物鏡光闌具有自清潔功能

6. 儀器的烘烤維護及烘烤后的透鏡機械對中均可由用戶自行完成

主要用途：

掃描電鏡（SEM）可觀察納米材料、材料斷口的分析、觀察原始表面、觀察區(qū)域細節(jié)、顯微結構分析等。

X射線能譜儀可進行成分的常規(guī)微區(qū)分析：元素定量、定性成分分析，實時微區(qū)成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量。分析范圍Be4~U92。

已廣泛應用于材料科學、金屬材料、陶瓷材料半導體材料、化學材料、醫(yī)藥科學以及生物等領域。